在应用多区气体供给装置的等离子体处理室中的共用气体面板

摘要

用于在等离子体处理室的多个多区气体供给室用气体面板的装置和方法。各多区气体供给室具备其自身的多区气体供给装置，以便可调节地将进入的气流分入各室并且将不同的气流提供至多区气体供给室的不同区域。

主权项

一种用于将工艺气体提供至等离子体处理系统的多个多区气体供给室的气体供给输送装置，包括：多个气体供给管道；被连接以接纳来自所述多个气体供给管道的不同气体的共用气体面板，所述共用气体面板将所述不同气体加以混合以形成混合气体并且将所述混合气体均等地分开以便将所述混合气体的一部分提供至所述多个多区气体供给室的每个室，其中所述共用气体面板构造成经由不同的各自的管道从所述共用气体面板输出所述混合气体的每个所述部分；包括连接到所述共用气体面板的下游的至少两个多区气体供给装置的多个多区气体供给装置，所述多个多区气体供给装置中的每个构造成(i)经由所述不同的各自的管道直接从所述共用气体面板单独接收所述混合气体的所述部分，以及(ii)可调节地将从所述共用气体面板被所述多个多区气体供给装置中的每个所接纳的所述混合气体的所述部分分成指定用于所述多个多区气体供给室的多区气体供给室的不同区域的多个气体区域流；第一各自的阀，其设置在所述多个多区气体供给装置的每个多区气体供给装置与所述共用气体面板之间；第二各自的阀，其设置在所述多个多区气体供给装置中的每个多区气体供给装置和所述多个多区气体供给室之间；以及逻辑器件，所述逻辑器件是用于接收来自所述多个多区气体供给室的至少两个多区气体供给室的光发射光谱信号并且用于基于所述接收的光发射光谱信号将控制信号提供给所述第一各自的阀和所述第二各自的阀。