发明名称 溅射靶及其制造方法
摘要 本发明提供一种含有高浓度的Na并且可以抑制变色、斑点的产生和异常放电,进而具有高强度而不易破裂的溅射靶及其制造方法。本发明的溅射靶具有如下成分组成:作为溅射靶的除F、S、Se以外的金属成分,含有Ga:10~40at%、Na:1.0~15at%,剩余部分由Cu及不可避免杂质构成,以由氟化钠、硫化钠及硒化钠中的至少一种构成的Na化合物的状态含有Na,理论密度比为90%以上,抗折强度为100N/mm<sup>2</sup>以上,体积电阻率为1mΩ·cm以下,在靶表面的1cm<sup>2</sup>面积内,0.05mm<sup>2</sup>以上的氟化钠、硫化钠及硒化钠中的至少一种的凝集体平均存在一个以下。
申请公布号 CN104024470B 申请公布日期 2016.08.24
申请号 CN201380004675.7 申请日期 2013.02.15
申请人 三菱综合材料株式会社 发明人 张守斌;梅本启太;小路雅弘
分类号 C23C14/34(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人 康泉;宋志强
主权项 一种溅射靶,其特征在于,具有如下成分组成:作为溅射靶的除F、S、Se以外的金属成分,含有Ga:10~40at%、Na:1.0~15at%,剩余部分由Cu及不可避免杂质构成,以由氟化钠构成的Na化合物的状态含有Na,理论密度比为90%以上,抗折强度为100N/mm<sup>2</sup>以上,体积电阻率为1mΩ·cm以下,含氧量为200~2000ppm,在靶表面的1cm<sup>2</sup>面积内,0.05mm<sup>2</sup>以上的Na化合物的凝集体平均存在一个以下。
地址 日本东京