发明名称 |
用于光刻设备的预对准装置的预对准方法 |
摘要 |
本发明公开一种用于光刻设备的预对准装置,包括:定心单元,用于承载硅片进行直线运动,以补偿硅片偏心;定向单元,用于旋转所述硅片和确定硅片的缺口位置;图像采集单元,用于采集所述硅片的边缘及缺口信息;数据处理单元,用于处理所述采集信息和滤除所述采集信息中的干扰信息。本发明同时公开了一种用于光刻设备的预对准方法。 |
申请公布号 |
CN104111595B |
申请公布日期 |
2016.08.24 |
申请号 |
CN201310130183.4 |
申请日期 |
2013.04.16 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
郑教增;孙伟旺 |
分类号 |
G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅 |
主权项 |
一种用于光刻设备的预对准装置的预对准方法,所述预对准装置包括:定心单元,用于承载硅片进行直线运动,以补偿硅片偏心;定向单元,用于旋转所述硅片和确定硅片的缺口位置;图像采集单元,用于采集所述硅片的边缘及缺口信息;数据处理单元,用于处理所述采集信息和滤除所述采集信息中的干扰信息;其特征在于,所述预对准方法包括:步骤一、旋转硅片并采集所述硅片的边缘图像数据;步骤二、对所述边缘图像数据进行滤波处理后计算所述硅片的形心,根据计算结果移动所述硅片以补偿定心偏差;步骤三、再次旋转硅片并采集所述硅片的边缘图像数据,根据所述边缘图像数据确定是否满足定心设计要求,如果满足进入步骤四,如果不满足返回步骤一;步骤四、根据所述边缘图像数据粗查找所述硅片的缺口位置,在所述缺口位置范围内,获取该缺口位置图像数据;步骤五、对所述缺口位置图像数据进行滤波处理后,根据处理结果旋转所述硅片以补偿定向偏差。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 |