发明名称 Photopolymerizable composition for nanoimprint and method of preparing nanopatterned film using the same
摘要 본 발명은 실록산과 포스포러스를 기반으로 말단에 작용기로 아크릴레이트를 도입하여 광경화가 가능하도록 한 나노임프린트용 광중합성 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 박막의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 나노임프린트용 광중합성 조성물은 몰드와의 이형성, 경화성, 에칭 저항성, 패턴 전사성, 기판과의 밀착성, 내화학성, 내구성, 투과성 등이 우수하므로 미세패턴 박막의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
申请公布号 KR101650740(B1) 申请公布日期 2016.08.24
申请号 KR20140122008 申请日期 2014.09.15
申请人 한국화학연구원 发明人 조성윤;이영철;강영훈;이창진;김동욱;강영구
分类号 C08F220/26;C08F230/02;C08F230/08;C08G77/442;C08J5/00 主分类号 C08F220/26
代理机构 代理人
主权项
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