发明名称 |
一种真空离子镀膜用的送气装置 |
摘要 |
一种真空离子镀膜用的送气装置,包括混气室,所述混气室左端连接有若干进气装置,所述进气装置包括第一气瓶和第二气瓶,所述第一气瓶和第二气瓶均通过进气管与混气室相连通,所述第一气瓶与进气管的连接处设有第一电磁阀,第二气瓶与进气管的连接处设有第二电磁阀,第一电磁阀和第二电磁阀的内部均设置有压力传感器,第一电磁阀和第二电磁阀均电连接控制装置;所述混气室内设有套筒,所述套筒的左端与混气室的左端相连通,套筒的右端口敞开。本实用新型的有益效果是通过第一气瓶和第二气瓶的自动切换,保证了真空镀膜设备用气的稳定性,避免了由于气瓶内气体容量或气压过低而对镀膜质量带来的不利影响。 |
申请公布号 |
CN205501407U |
申请公布日期 |
2016.08.24 |
申请号 |
CN201620047366.9 |
申请日期 |
2016.01.19 |
申请人 |
天津涂冠科技有限公司 |
发明人 |
刘玉杰 |
分类号 |
C23C14/32(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/32(2006.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
一种真空离子镀膜用的送气装置,包括混气室,其特征在于,所述混气室左端连接有若干进气装置,所述进气装置包括第一气瓶和第二气瓶,所述第一气瓶和第二气瓶均通过进气管与混气室相连通,所述第一气瓶与进气管的连接处设有第一电磁阀,第二气瓶与进气管的连接处设有第二电磁阀,第一电磁阀和第二电磁阀的内部均设置有压力传感器,第一电磁阀和第二电磁阀均电连接控制装置;所述混气室内设有套筒,所述套筒的左端与混气室的左端相连通,套筒的右端口敞开,在套筒的外部套设有螺旋混合管道,螺旋混合管道的左端与套筒左端相连通,螺旋混合管道的右端与位于混气室的右端的出气口相连通。 |
地址 |
300000 天津市津南区经济开发区(东区)宝源路38号 |