发明名称 |
采用两步法在Nb基超高温合金表面制备抗氧化Zr-Y改性硅化物渗层的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种采用两步法在Nb基超高温合金表面制备抗氧化Zr‑Y改性硅化物渗层的制备方法,首先采用磁控溅射的方法在Nb基超高温合金表面沉积不同厚度的Zr膜,然后采用Si‑Y扩散共渗的方法在沉积Zr膜后的试样表面制备抗氧化Zr‑Y改性硅化物渗层。本发明解决了Nb基多元超高温合金高温抗性能差的技术难题,能够获得均匀、致密,Zr含量可控且与基体结合紧密的Zr‑Y改性硅化物渗层。采用1250℃恒温氧化实验进行检测,共渗后试样经5~200h恒温氧化后的氧化膜致密,少见脱落,表明本发明所提供的渗层具有优异的高温抗氧化性能。本发明所制备的渗层均匀、致密,Zr含量可控且与基体结合紧密,同时具有操作方便、成本低廉等一系列优点,适于生产和应用。 |
申请公布号 |
CN104313541B |
申请公布日期 |
2016.08.24 |
申请号 |
CN201410497699.7 |
申请日期 |
2014.09.25 |
申请人 |
西北工业大学 |
发明人 |
郭喜平;李轩;乔彦强 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C10/44(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
西北工业大学专利中心 61204 |
代理人 |
王鲜凯 |
主权项 |
一种采用两步法在Nb基超高温合金表面制备抗氧化Zr‑Y改性硅化物渗层的制备方法,其特征在于步骤如下:步骤1:采用磁控溅射的方法在Nb基超高温合金表面沉积Zr膜,Zr膜厚度为0.2‑30μm;步骤2:将经步骤1处理后合金埋入装有渗剂粉末的坩埚内并压实、加盖密封,然后置于高温高真空可控气氛扩散渗炉中,在1000~1400℃热处理0.5~12h,获得Zr‑Y改性硅化物渗层;所述渗剂是将重量百分比为5~30%的Si粉,0.5~5%的Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>粉,1~8%的NaF粉和其余Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>粉混合后,在球磨机中球磨混合而成;所述Si粉≤200目;所述Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>粉≤200目;所述NaF粉采用分析纯;所述Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>粉≤200目。 |
地址 |
710072 陕西省西安市友谊西路127号 |