发明名称 除污膜组件的运转方法
摘要 本发明涉及包含反洗工序的除污膜组件的运转方法,所述反洗工序是使除污膜的封闭端部的位置比开口端部的位置高,同时至少封闭端部暴露于大气中,且开口端部处于被处理水中,在该状态下自所述开口端部供给澄清水,由此将澄清水自所述除污膜的内侧向外侧挤出,进行反洗。
申请公布号 CN104755156B 申请公布日期 2016.08.24
申请号 CN201380056541.X 申请日期 2013.10.23
申请人 东丽株式会社 发明人 大久保贤一;高木亮太;新谷昌之
分类号 B01D65/02(2006.01)I;B01D63/02(2006.01)I 主分类号 B01D65/02(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 张桂霞;徐厚才
主权项  除污膜组件的运转方法,其是由壳体和容纳于该壳体中的除污膜构成,在所述除污膜的一个端部具有所述除污膜的过滤水流路被封闭的封闭端部,同时在另一端部具有所述过滤水流路开口的开口端部的除污膜组件的运转方法,该除污膜组件的运转方法具有以下工序:过滤工序,使被处理水由所述除污膜的外侧向内侧透过所述除污膜,由此将所述被处理水过滤,将所得过滤水由所述开口端部取出;以及封闭端部高位置反洗工序,通过改变所述壳体的上下方向相对于水平方向的位置,使所述封闭端部的位置置于比所述开口端部的位置高,同时至少形成所述封闭端部暴露于大气中的状态,且形成所述开口端部位于被处理水中的状态,自所述开口端部供给澄清水,由此将所述澄清水自所述除污膜的内侧向外侧挤出,进行所述除污膜的反洗。
地址 日本东京都