| 发明名称 | 湿刻设备 | ||
| 摘要 | 本发明的实施例涉及湿刻设备。该湿刻设备包括刻蚀室以及位于所述刻蚀室的顶部上的干燥腔。通过在刻蚀室的顶部上增加干燥腔，当刻蚀液中的水分的水蒸汽进入干燥腔后被干燥，这样可以有效阻止水蒸汽在刻蚀室顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物上的刻蚀液中，从而提高刻蚀均匀性，并因此提高最终产品的良品率。 | ||
| 申请公布号 | CN105895565A | 申请公布日期 | 2016.08.24 |
| 申请号 | CN201610405309.8 | 申请日期 | 2016.06.12 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 薛静;宋玉冰;李鑫;朱红;孙凤英 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 贺月娇;李峥 |
| 主权项 | 一种湿刻设备，其特征在于包括：刻蚀室；以及位于所述刻蚀室的顶部上的干燥腔。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||