干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物

摘要

本发明涉及一种干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，更详细地，涉及一种提高对显影液的隆起可靠性的同时，适用于使用少量的曝光能量也能够进行曝光的激光直接曝光机，进而在整体生产速度被曝光工艺的速度所左右的企业、PCB、导线架、PDP及其它显示单元等中形成图案时，能够使生产率极大化的干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物。

主权项

一种干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物，其特征为，该干膜光致抗蚀剂用的光敏树脂组合物包括：光聚合引发剂(A)、碱显影性粘合剂聚合物(B)、以及光聚合性化合物(C)，所述光聚合引发剂(A)含有N‑苯基甘氨酸，所述光聚合性化合物(C)中含有在分子内具有乙烯型不饱和基及氨基甲酸酯键且重均分子量为1,000至50,000g/mol的化合物。