一种光刻机大面积静态调焦调平的装置和方法

摘要

本发明提出一种高效光刻机大面积静态调焦调平装置，包括：投影物镜、硅片、工件台和调焦调平装置，所述投影物镜将掩膜图形曝光到硅片上；所述调焦调平装置包括光源、照明镜组、投影狭缝、投影镜组、探测镜组和探测器，所述光源经过所述照明镜组和所述投影镜组将所述投影狭缝成像在被测物上，经被测物反射后通过所述探测镜组将投影狭缝的像成像在所述探测器上；其特征在于，所述投影狭缝的测量光斑可以覆盖多个曝光场，每个曝光场包括多个测量光斑。本发明提出的一种高效大面积静态调焦调平装置和方法，可同时对多个曝光场进行测量。场切换时直接到达最佳焦面，减少了测量及逐场调平时间，提高整机效率。

主权项

一种光刻机大面积静态调焦调平装置，包括光源、照明镜组、投影狭缝、投影镜组、探测镜组和探测器，所述光源经过所述照明镜组和所述投影镜组将所述投影狭缝成像在被测物上，经被测物反射后通过所述探测镜组将投影狭缝的像成像在所述探测器上；其特征在于，所述投影狭缝的测量光斑可以覆盖多个曝光场，每个曝光场包括多个测量光斑。