| 发明名称 | 5-羟基哌啶-2-甲酸的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种下述式(10)所示的(2S,5S)/(2R,5R)‑5‑羟基哌啶‑2‑甲酸的制造方法，其特征在于，包括将下述式(7)所示的化合物中的羟基脱保护而合成下述式(8)所示的化合物的工序(式(7)中，P表示保护基，R<sup>3</sup>表示碳原子数1～4的烷基，A表示碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～12的芳基、碳原子数1～4的烷氧基或碳原子数7～20的芳烷氧基)(式(8)中，R<sup>3</sup>表示碳原子数1～4的烷基，A表示碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～12的芳基、碳原子数1～4的烷氧基或碳原子数7～20的芳烷氧基)。<img file="DDA0001030997420000011.GIF" wi="419" he="1404" /> | ||
| 申请公布号 | CN105899487A | 申请公布日期 | 2016.08.24 |
| 申请号 | CN201480071310.0 | 申请日期 | 2014.12.26 |
| 申请人 | 株式会社API | 发明人 | 竹原润;村井真人;大谷鹰士;前田智子;日高次彦 |
| 分类号 | C07D211/60(2006.01)I;C07C233/47(2006.01)I;C07C309/66(2006.01)I;C07D498/08(2006.01)I;C07B61/00(2006.01)I | 主分类号 | C07D211/60(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种下述式(10)所示的(2S,5S)/(2R,5R)‑5‑羟基哌啶‑2‑甲酸的制造方法，其特征在于，包括(i)工序4：将下述式(7)所示的化合物中的羟基脱保护从而合成下述式(8)所示的化合物的工序，<img file="FDA0001030997390000011.GIF" wi="560" he="503" />式(7)中，P表示保护基，R<sup>3</sup>表示碳原子数1～4的烷基，A表示碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～12的芳基、碳原子数1～4的烷氧基或碳原子数7～20的芳烷氧基，<img file="FDA0001030997390000012.GIF" wi="554" he="487" />式(8)中，R<sup>3</sup>表示碳原子数1～4的烷基，A表示碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～12的芳基、碳原子数1～4的烷氧基或碳原子数7～20的芳烷氧基，<img file="FDA0001030997390000021.GIF" wi="537" he="403" /> | ||
| 地址 | 日本东京 | ||