发明名称 |
投影系统以及投影仪 |
摘要 |
本发明提供一种通过多个投影仪进行投射的投影系统、且是能够在容易调整用于调整各投影仪的投射图像的位置的向导的状态下进行投射,并容易地进行位置调整的投影系统、以及投影仪。该投影系统通过包括第1投影仪和第2投影仪的多个投影仪向投射面进行投射,通过第1投影仪将第1向导(3A)投射至从投射图像的投射区域端空开规定量边距的位置,通过第2投影仪投射能够与第1向导(3A)辨别开的第2向导(3B)。 |
申请公布号 |
CN103472663B |
申请公布日期 |
2016.08.24 |
申请号 |
CN201310218407.7 |
申请日期 |
2013.06.04 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
有贺忠德;安田裕;片平透 |
分类号 |
G03B21/14(2006.01)I;G03B21/00(2006.01)I;H04N5/74(2006.01)I |
主分类号 |
G03B21/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
舒艳君;李洋 |
主权项 |
一种投影系统,其特征在于,是通过包括第1投影仪和第2投影仪的多个投影仪来向投射面进行投射的投影系统,通过所述第1投影仪将第1向导投射至从投射图像的投射区域端空开规定量边距的位置,通过所述第2投影仪来投射能够与所述第1向导辨别开的第2向导,所述第1投影仪具备进行失真校正的校正单元、和将进行了失真校正的图像投射至所述投射面的投射单元,所述第1投影仪将所述第1向导投射至自未被所述校正单元进行校正的状态下的最大可投射区域端空开规定量边距的位置。 |
地址 |
日本东京都 |