发明名称 ダイヤモンド上の窒化ガリウム型ウェーハの製造方法
摘要 A method for integrating wide-gap semiconductors, and specifically, gallium nitride epilayers, with synthetic diamond substrates is disclosed. Diamond substrates are created by depositing synthetic diamond onto a nucleating layer deposited or formed on a layered structure that comprises at least one layer of gallium nitride. Methods for manufacturing GaN-on-diamond wafers with low bow and high crystalline quality are disclosed along with preferred choices for manufacturing GaN-on-diamond wafers and chips tailored to specific applications.
申请公布号 JP5978548(B2) 申请公布日期 2016.08.24
申请号 JP20140560054 申请日期 2013.02.28
申请人 エレメント シックス テクノロジーズ ユーエス コーポレイション 发明人 フランシス ダニエル;ナーサル−フェーイリ フィローズ;マシューズ クリストファー;ロウ フランク ヤンティス;ディダック クエンティン;ザイツェフ セルゲイ;エジェッカム フェリックス
分类号 C30B29/04 主分类号 C30B29/04
代理机构 代理人
主权项
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