发明名称 SOI衬底石墨烯晶体管太赫兹波双频点选频调制器及其制备方法
摘要 本发明属于太赫兹功能器件技术领域,提供一种SOI衬底石墨烯晶体管太赫兹波双频点选频调制器及其制备方法。该SOI衬底石墨烯晶体管太赫兹波双频点选频调制器,包括衬底,衬底上表面依次设置的Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>栅介质层、石墨烯薄膜,以及源电极、漏电极‑双频点超材料结构谐振单元组、栅电极;所述衬底为SOI衬底;所述源电极、漏电极‑双频点超材料结构谐振单元组设置于石墨烯导电薄膜上,漏电极‑双频点超材料结构谐振单元组用于实现双频点调制;所述栅电极为环形栅电极、设置于衬底上表面。本发明SOI衬底石墨烯晶体管太赫兹波双频点选频调制器能够有效降低调制器损耗,减小调制器工作电压,并且可实现调制器双频点的选频应用。
申请公布号 CN105892103A 申请公布日期 2016.08.24
申请号 CN201610223600.3 申请日期 2016.04.12
申请人 电子科技大学 发明人 文岐业;沈雁飞;刘朝阳;李加洋;殷亮;刘洋;涂翔宇;文天龙;陈智;杨青慧;张怀武
分类号 G02F1/015(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/16(2006.01)I;H01L21/762(2006.01)I 主分类号 G02F1/015(2006.01)I
代理机构 电子科技大学专利中心 51203 代理人 李明光
主权项 SOI衬底石墨烯晶体管太赫兹波双频点选频调制器,包括衬底(101),衬底上表面依次设置的Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>栅介质层(102)、石墨烯薄膜(103),以及源电极(105)、漏电极‑双频点超材料结构谐振单元组(106)、栅电极(104);其特征在于,所述衬底(101)为SOI衬底;所述源电极(105)、漏电极‑双频点超材料结构谐振单元组(106)设置于石墨烯薄膜(103)上,漏电极‑双频点超材料结构谐振单元组(106)用于实现双频点调制;所述栅电极(104)为环形栅电极、设置于衬底(101)上表面且环绕所述Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>栅介质层(102)、石墨烯薄膜(103)、源电极(105)、漏电极‑双频点超材料结构谐振单元组(106)。
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