键控晶片载体

摘要

本发明提供一种用于化学气相沉积反应器的装置(10)，其理想地包括：具有内部区域(26)的反应室，安装在所述反应室内的主轴(30)，以及可释放地安装在所述主轴上以随之旋转的晶片载体(40)。所述主轴理想地具有沿着竖直旋转轴线(32)延伸的传动轴(36)以及从所述传动轴向外突出的键(80)。所述晶片载体(40)优选地具有限定了顶表面(41)和底表面(44)的主体(40a)以及至少一个构造来保持晶片(50)的晶片保持结构(43)。所述晶片载体(40)理想地还具有从所述底表面(44)延伸进入所述主体的凹部(47)，以及沿着所述横向轴线(106)从所述凹部的外围(104)向外突出的键槽(48)。所述传动轴(36)优选地接合在所述凹部(47)中并且所述键(80)优选地接合在所述键槽(48)中。

主权项

一种用于化学气相沉积反应器的装置，所述装置包括晶片载体，晶片载体具有：主体，其限定了朝向相反的顶表面和底表面，以及垂直于所述顶表面和底表面的竖直旋转轴线；至少一个晶片保持结构，其构造成使得晶片能够保持在其中，同时晶片的表面暴露在主体的顶表面；凹部，其从所述主体的底表面延伸进入主体，所述凹部限定了外围；以及键槽，其沿着第一横向轴线从所述凹部的外围向外突出远离旋转轴线，其中，所述晶片载体的所述主体具有参考标记，所述参考标记限定在所述顶表面、所述底表面或在所述主体的所述顶表面和所述底表面之间延伸的周面的至少其中一个上，所述参考标记对于成像机构可见，所述参考标记在围绕所述旋转轴线的周向方向上设置在相对于所述键槽的预定位置上。