基片处理装置

摘要

本发明解决的问题，即改进已知的基片处理装置使得在不需要具有大厚度的高成本观察窗的情况下基片可以在所述装置内通过光被处理，通过这样的基片处理装置被解决，该基片处理装置包括安装腔和用于基片被光曝光的光源，光源被布置在基片处理装置的内部并且包括至少一盏灯，该灯被布置在至少部分可以透光并且具有用于容纳灯的真空密封腔的壳体内，并且该基片处理装置还包括至少一个反射器元件，该反射器元件被布置成在空间上邻近该至少一盏灯，并且具有电连接件。

主权项

一种基片处理装置，所述基片处理装置包括：安装腔；和用于基片的曝光的光源，其中，所述光源被布置在所述安装腔内并且包括至少一盏放电灯，所述放电灯被布置在至少局部透光的壳体中，所述壳体具有用于容纳所述至少一盏放电灯的真空密封腔；以及至少一个反射器元件，所述反射器元件具有电连接件，并且被布置成在空间上邻近所述至少一盏放电灯，其中，所述至少一盏放电灯包括布置在第一平面内的至少两个杆状放电灯，并且，所述反射器元件包括布置在与上述第一平面平行的一个平面内的至少一个导电板或导电涂层板，以及其中，所述电连接件将所述反射器元件置于可选的电势，从而所述反射器元件被用于触发所述放电灯。