| 发明名称 | 研磨剂、研磨方法和半导体集成电路装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种研磨剂、研磨方法和半导体集成电路装置的制造方法，所述研磨剂的特征在于，其含有氧化铈粒子、水溶性多胺、氢氧化钾、选自有机酸及其盐中的至少一者、和水，且其pH为10以上。 | ||
| 申请公布号 | CN105895518A | 申请公布日期 | 2016.08.24 |
| 申请号 | CN201610084889.5 | 申请日期 | 2016.02.14 |
| 申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 铃木胜;大槻寿彦 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;B24B37/04(2012.01)I;C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 杨海荣;穆德骏 |
| 主权项 | 一种研磨剂，其特征在于，含有：氧化铈粒子，水溶性多胺，氢氧化钾，选自有机酸及其盐中的至少一者，和水，且其pH为10以上。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||