电离室调节装置

摘要

本发明涉及一种电离室调节装置，包括：基座，基座上具有第一导轨；电离室位置调整装置，包括：一级移动载物平台，在第一导轨上平动，且具有第二导轨，第一导轨沿X射线主束方向，第二导轨与第一导轨的方向垂直；二级移动载物平台，在第二导轨上平动；三级移动载物平台，包括竖直升降调整平台，竖直升降调整平台上具有夹具夹持电离室，用于调节电离室的高度；调节一级移动载物平台在第一导轨上平动，二级移动载物平台在第二导轨上平动，竖直升降调整平台调节电离室高度，使得激光中心对准电离室的灵敏体积中心，激光中心与X射线主束中心位置相同。本发明电离室调节装置实现了方便和精确的电离室位置的调整。

主权项

一种电离室调节装置，其特征在于，所述电离室调节装置包括：基座，所述基座上具有第一导轨；电离室位置调整装置，包括：一级移动载物平台，滑设在第一导轨上，在所述第一导轨上平动，且具有第二导轨，所述第一导轨沿X射线主束方向，所述第二导轨与所述第一导轨的方向垂直；二级移动载物平台，滑设在所述第二导轨上，在所述第二导轨上平动；三级移动载物平台，与所述二级移动载物平台相接设，包括竖直升降调整平台，所述竖直升降调整平台上具有夹具夹持电离室，用于调节所述电离室的高度；其中，调节一级移动载物平台在所述第一导轨上平动，二级移动载物平台在所述第二导轨上平动，竖直升降调整平台调节所述电离室高度，使得激光中心对准所述电离室的灵敏体积中心，所述激光中心与所述X射线主束中心位置相同。