发明名称 |
包括用于保持物体的支撑件的光刻装置、以及用于在光刻装置中使用的支撑件 |
摘要 |
一种光刻装置具有支撑件(S),支撑件设置有用于保持物体(W)的突节(BR)。支撑件已经采用光刻制造方法制造,例如MEMS技术,以便于形成其取向或位置为单独电可控的突节。 |
申请公布号 |
CN104094171B |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201380008080.9 |
申请日期 |
2013.02.04 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
T·P·M·凯德;V·Y·巴宁;K·J·J·M·扎尔;R·巴迪;H·辛格 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
王茂华 |
主权项 |
一种光刻装置,包括用于保持物体的支撑件,其中:所述支撑件具有第一部分,所述第一部分具有当所述支撑件保持所述物体时面向所述物体的第一上部主表面;所述支撑件具有第二部分,所述第二部分具有面向所述第一部分的第一底部主表面的第二上部主表面;所述第二上部主表面和所述第一底部主表面借由多个分立的支撑壁而相互间隔开;所述支撑件具有从所述第一上部主表面延伸的多个突节;所述多个突节中的第一突节具有操作用于当所述支撑件保持所述物体时接触所述物体的第一顶表面;所述多个突节中的第二突节具有操作用于当所述支撑件保持所述物体时接触所述物体的第二顶表面;所述第一顶表面具有相对于所述第二上部主表面的第一位置,并且具有相对于所述第二上部主表面的第一取向;所述第二顶表面具有相对于所述第二上部主表面的第二位置,并且具有相对于所述第二上部主表面的第二取向;所述光刻装置包括控制器,所述控制器被配置用于以下项中的至少一项:当所述支撑件保持所述物体时,相互独立地控制所述第一位置和所述第二位置;以及当所述支撑件保持所述物体时,相互独立地控制所述第一取向和所述第二取向。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |