发明名称 一种柔性磁薄膜及其制备方法
摘要 本发明提供了一种柔性磁薄膜及其制备方法,该柔性磁薄膜具有柔性衬底和生长于柔性衬底表面的磁性材料,柔性衬底的粗糙度小于或等于10纳米;制备方法包括:将柔性基材剪裁成正方形作为柔性衬底;用异丙醇超声清洗柔性衬底10~15min并用氮气吹干;在真空度小于5×10<sup>‑</sup><sup>5</sup>Pa的环境下采用直流磁控溅射法依次生长第一铂金层、钴层和第二铂金层;本发明的柔性磁薄膜延展性很好,能够很方便地进行弯曲并且在弯曲的同时其物理性质也不会发生大的改变,具有成本低廉和生产工艺简单的优点。
申请公布号 CN104167275B 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201410360584.3 申请日期 2014.07.25
申请人 同济大学 发明人 车雯茹;孙钮一;张琰卿;单荣
分类号 H01F10/08(2006.01)I;H01F41/14(2006.01)I;H01F41/18(2006.01)I 主分类号 H01F10/08(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 吴林松
主权项 一种柔性磁薄膜,其特征在于:具有:柔性衬底和生长于所述柔性衬底表面的磁性材料,所述柔性衬底的粗糙度小于或等于10纳米;所述柔性衬底由纳米纸质材料制成;所述磁性材料包括:聚二甲基硅氧烷层、第一铂金层、形成于所述第一铂金层表面的钴层以及形成于所述钴层表面的第二铂金层;所述聚二甲基硅氧烷层形成于所述柔性衬底和所述第一铂金层之间。
地址 200092 上海市杨浦区四平路1239号