一种用于浸没式光刻机的气液隔离装置

摘要

本发明公开了一种在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片，投影物镜组和硅片之间安装有气液隔离装置。气液隔离装置从下至上依次包括浸没单元表面块、浸没单元下端盖、浸没单元主体和浸没单元上端盖，用螺钉连成一体。本发明第一层为水平回收，通过水平回收结构回收大量液体，实现流场的快速更新，同时保证镜头区液面维持一定高度，液面不至于超过浸没单元，发生溢流，气体也不会因此随水平注液带入浸没流场，形成不完整填充。第二层为垂直回收，通过沿圆周均匀分布的垂直小孔群结构，对缝隙流场的气液边界进行了初步束缚；采用亲水、疏水结构相配合的工作的方式，利用液体在亲、疏水交界处的张力特性加强对气液边界的束缚，达到理想密封的效果。

主权项

一种用于浸没式光刻机的气液隔离装置，包括在浸没式光刻机中的投影物镜组（1）和硅片（3），投影物镜组（1）和硅片（3）之间安装有隔离装置；所述隔离装置为气液隔离装置（2），从下至上依次包括浸没单元下端盖（2.2）、浸没单元主体（2.3）和浸没单元上端盖（2.4）；其中：浸没单元下端盖（2.2）：浸没单元下端盖（2.2）开有中心通孔，中心通孔向外开有回收腔（2.2B），回收腔内有沿圆周均匀分布回收小孔（2.2A），回收小孔（2.2A）末端往浸没单元下端盖（2.2）中心处向内，开有内台阶（2.2C）；浸没单元上端盖（2.4）：浸没单元上端盖（2.4）是一块圆环形的板材，中心开有圆形通孔；浸没单元上端盖（2.4）与浸没单元主体（2.3）配合，形成完整的水平注液流道、水平回收流道和气液回收腔体；其特征在于：还包括：浸没单元表面块（2.1），浸没单元表面块（2.1）与浸没单元下端盖外台阶（2.2D）配合，浸没单元表面块（2.1）下表面，即与硅片（3）相对的面有疏水结构或疏水涂层，与浸没单元下端盖（2.2）下表面的亲水结构或亲水涂层形成密封面；所述浸没单元下端盖（2.2）中的回收小孔（2.2A）往外有外台阶（2.2D），内台阶（2.2C）有利于浸没液体的填充，外台阶（2.2D）用于与浸没单元表面块（2.1）的上表面配合；所述浸没单元主体（2.3）：浸没单元主体（2.3）上端面开有下沉的圆形槽（2.3G），圆形槽正中开有锥角为45°的通孔，锥形通孔径向两侧分别开有水平注液流道（2.3A）和水平回收流道（2.3B），水平注液流道（2.3A）和水平回收流道（2.3B）外围两边分别包裹着一条气液回收槽（2.3D）；两条气液回收槽（2.3D）中分别布有两个相同大小的腰型槽（2.3E）；四条腰型槽（2.3E）直接与浸没单元主体（2.3）下端面上的气液回收槽（2.3F）相通，气液回收槽（2.3F）开在浸没单元主体（2.3）下端面上；两条气液回收槽（2.3D）、四条腰型槽（2.3E）、下端面上的气液回收槽（2.3F）、浸没单元下端盖（2.2）上的回收腔（2.2B）以及浸没单元上端盖（2.4）构成一个完整的气液回收腔体，两条气液回收槽（2.3D）两侧又分别被两条密封槽（2.3C）包围，四条密封槽（2.3C）内会填充密封材料。