发明名称 成像探测器
摘要 一种成像探测器(214),包括闪烁体阵列(216)和光传感器阵列(218),所述闪烁体阵列包括闪烁体元件(228)和材料(230),所述光传感器阵列包括具有光敏感区域(224)和非敏感区域(226)的探测器元件(222)。所述光敏感区域与所述闪烁体元件被间隙分开,所述光敏感区域与所述闪烁体元件一对一地机械对准,并且所述非敏感区域与所述材料一对一地机械对准。所述探测器还包括结构(234),所述结构包括一个或多个无材料通道。所述结构定位于所述非敏感区域与所述材料之间并且不定位于所述光敏感区域与所述闪烁体元件之间。光学胶黏剂(232)位于所述间隙中,填充整个间隙,并且机械地和光学地耦合所述光敏感区域与所述闪烁体元件。
申请公布号 CN103620445B 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201280027742.2 申请日期 2012.04.05
申请人 皇家飞利浦有限公司 发明人 R·P·卢赫塔;M·A·查波;B·E·哈伍德;R·A·马特森
分类号 G01T1/20(2006.01)I 主分类号 G01T1/20(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 王英;刘炳胜
主权项 一种成像探测器(214),包括:闪烁体阵列(216),其包括多个闪烁体元件(228)和设置在所述闪烁体元件之间的材料(230);光传感器阵列(218),其包括多个探测器元件(222),每个探测器元件具有光敏感区域(224)和非敏感区域(226),所述光敏感区域(224)至少部分地由所述非敏感区域(226)围绕,其中,所述多个探测器元件的所述光敏感区域分别与所述多个闪烁体元件一对一地机械对准并且与所述多个闪烁体元件被间隙分开,并且所述多个探测器元件的所述非敏感区域与所述材料机械对准;结构(234),其包括一个或多个无材料通道,其中,所述结构定位于所述非敏感区域与所述材料之间,并且不定位于所述光敏感区域与所述闪烁体元件之间;以及光学胶黏剂(232),其定位于所述间隙中,填充整个所述间隙,并且机械地和光学地耦合所述光敏感区域与所述闪烁体元件。
地址 荷兰艾恩德霍芬