| 发明名称 | 高分子多孔质膜和高分子多孔质膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供透水性及耐碱性优异、同时具有优异的机械强度的高分子多孔质膜。本发明高分子多孔质膜的特征在于，其含有具有偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元的含氟聚合物(A)。 | ||
| 申请公布号 | CN103608368B | 申请公布日期 | 2016.08.17 |
| 申请号 | CN201280029849.0 | 申请日期 | 2012.06.20 |
| 申请人 | 大金工业株式会社 | 发明人 | 盐谷优子;田中义人;三木淳 |
| 分类号 | C08F214/22(2006.01)I;B01D71/34(2006.01)I;B01D71/36(2006.01)I;C08F8/00(2006.01)I;C08F214/26(2006.01)I;C08J9/28(2006.01)I | 主分类号 | C08F214/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 庞东成;张志楠 |
| 主权项 | 一种高分子多孔质膜，其特征在于，其含有具有偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元的含氟聚合物，所述含氟聚合物中偏二氟乙烯单元/四氟乙烯单元的摩尔比为50～90/50～10，所述高分子多孔质膜以X射线光电子能谱法测定的表面上的O元素含量相对于F元素含量的比例即O/F为0.050以上且小于0.150，并且以X射线光电子能谱法测定的表面上的C‑F键相对于C‑H键的比例即C‑F/C‑H大于0.50且2.0以下，所述膜为中空纤维膜。 | ||
| 地址 | 日本大阪府大阪市 | ||