| 发明名称 | 一种掩膜板及其制备方法、接触孔的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种掩膜板及其制备方法、接触孔的制备方法，以实现提高制备阶梯状的接触孔时精度，从而提高产品良率。所述掩膜板的制备方法，包括：在透明基板上分别形成包括第一图案的第一膜层和包括第二图案的第二膜层，使所述第一膜层仅保留所述第一图案之外的部分，且所述第一图案暴露所述透明基板，以及使所述第二膜层仅保留第二图案，所述第二图案在所述透明基板上的垂直投影落于所述第一图案范围内；其中，所述第一膜层具有第一透光率，所述第二膜层具有与所述第一透光率不相等的第二透光率。 | ||
| 申请公布号 | CN105867065A | 申请公布日期 | 2016.08.17 |
| 申请号 | CN201610460937.6 | 申请日期 | 2016.06.22 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 张玉虎 |
| 分类号 | G03F1/80(2012.01)I;G03F1/82(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/80(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：在透明基板上分别形成包括第一图案的第一膜层和包括第二图案的第二膜层，使所述第一膜层仅保留所述第一图案之外的部分，且所述第一图案暴露所述透明基板，以及使所述第二膜层仅保留第二图案，所述第二图案在所述透明基板上的垂直投影落于所述第一图案范围内；其中，所述第一膜层具有第一透光率，所述第二膜层具有与所述第一透光率不相等的第二透光率。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||