发明名称 生产率及一致性提高的离子注入的系统及方法
摘要 本发明涉及一种扫描系统,该扫描系统包括扫描元件、射束评测仪、分析系统及ZFE限制元件。扫描元件配置成扫描离子束扫描路径上的离子束。在离子束扫描路径上扫描离子束时,射束评测仪测量离子束的束电流;分析系统分析所测的束电流,从而检测ZFE情况。位于射束评测仪上游并经由反馈通路耦合至分析系统的ZFE限制元件配置成基于是否检测到ZFE情况而有选择地向经扫描离子束施加时变电场。选择性施加的电场引发经扫描射束中的变化,从而限制ZFE情况。
申请公布号 CN105869978A 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201610257320.4 申请日期 2012.12.13
申请人 艾克塞利斯科技公司 发明人 爱德华·艾伊斯勒;伯·范德伯格
分类号 H01J37/244(2006.01)I;H01J37/304(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I 主分类号 H01J37/244(2006.01)I
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人 寿宁;张华辉
主权项 一种用于提高离子注入系统中磁扫描离子束的一致性的方法,该方法包括:以扫描频率扫描穿过扫描路径的离子束,该离子束具有束电流或束密度;分析所扫描的离子束,以确定是否存在零场效应;以及选择性向所述离子束施加电场,以减轻所述零场效应情况。
地址 美国马萨诸塞州贝佛利市