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发明名称
Manufacturing Method of Si Film using Si Solution Process
摘要
실리콘 용액 프로세스를 이용한 실리콘막 제조 방법이 개시된다. 실리콘막 제조 방법에 있어서, 저온 공정으로 두께에 제한이 없는 실리콘막 제조 방법을 제공한다.
申请公布号
KR101648867(B1)
申请公布日期
2016.08.17
申请号
KR20090048652
申请日期
2009.06.02
申请人
삼성전자주식회사
发明人
이정현;마동준
分类号
H01L21/208
主分类号
H01L21/208
代理机构
代理人
主权项
地址
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