发明名称 |
一种热固化型无印痕有机硅压敏胶带及其制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种热固化型无印痕有机硅压敏胶带,包括基材层和通过涂覆有机硅压敏胶黏剂而形成的有机硅压敏胶层,在基材层和有机硅压敏胶层之间设置有通过涂覆底涂剂而形成的底涂层;有机硅压敏胶黏剂包括重量份为100份有机硅压敏胶、30-100份甲苯、0.5-3份过氧化苯甲酰和占所述过氧化苯甲酰质量的70%-230%的去影剂;底涂剂包括重量份为100份底涂剂、1.4份架桥剂、0.5份催化剂和500-2000份甲苯;采用本发明所提供的热固化型无印痕有机硅压敏胶带及其制作方法,制作过程简单、成本低廉,不会对被黏贴物构成腐蚀并产生难以去处的印痕,从而避免了被黏贴物的外观不良。 |
申请公布号 |
CN103627337B |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201310177179.3 |
申请日期 |
2013.05.14 |
申请人 |
苏州邦立达新材料有限公司 |
发明人 |
潘成诚 |
分类号 |
C09J7/02(2006.01)I;C09J183/04(2006.01)I;C09D201/00(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I |
主分类号 |
C09J7/02(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种热固化型无印痕有机硅压敏胶带,其特征在于,包括基材层和通过涂覆有机硅压敏胶黏剂而形成的有机硅压敏胶层,在所述基材层和所述有机硅压敏胶层之间设置有通过涂覆底涂剂而形成的底涂层;所述有机硅压敏胶黏剂包括重量份为100份有机硅压敏胶、30‑100份的甲苯、0.5‑3份的过氧化苯甲酰和去影剂;所述去影剂质量占所述过氧化苯甲酰质量的70%‑230%;所述去影剂为在搅拌条件下往异丙醇中加入固体氢氧化钾直至完全溶解;完全溶解后调整氢氧化钾的浓度为20%,然后将溶液静置、陈化2‑24小时,快速滤去溶液中的不溶物,将滤液放置在聚烯烃的塑料容器中密封保存继而所获得的去影剂;所述底涂剂包括重量份为100份的<img file="FSB0000146516750000014.GIF" wi="388" he="81" />7499底涂剂、1.4份的<img file="FSB0000146516750000015.GIF" wi="261" he="70" />7367架桥剂、0.5份的<img file="FSB0000146516750000016.GIF" wi="263" he="73" />4000催化剂和500‑2000份的甲苯。 |
地址 |
215106 江苏省苏州市吴中区临湖镇渡村采莲村 |