| 发明名称 | 外延生长监控图形及监控方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种外延生长监控图形，所述外延生长监控图形分为X和Y方向的两组，每组都包含有一封闭的口字型图形，其中X组图形的口字型图形水平方向两外侧均有垂直的外框图形；Y组图形的口字型图形上下两外侧均有水平的外框图形，所述的垂直或水平的外框图形均与口字型图形之间存在间隔。本监控图形可以监控外延生长工艺后导致的图像偏移量。本发明还公开了所述的外延生长监控图形的监控方法。 | ||
| 申请公布号 | CN105870031A | 申请公布日期 | 2016.08.17 |
| 申请号 | CN201610242891.0 | 申请日期 | 2016.04.19 |
| 申请人 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 王辉 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人 | 丁纪铁 |
| 主权项 | 一种外延生长监控图形，其特征在于：所述外延生长监控图形分为X和Y方向的两组，每组都包含有一封闭的口字型图形，其中X组图形的口字型图形水平方向两外侧均有垂直的外框图形；Y组图形的口字型图形上下两外侧均有水平的外框图形，所述的垂直或水平的外框图形均与口字型图形之间存在间隔。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||