发明名称 阵列基板及制作方法
摘要 本发明提供一种阵列基板及制作方法,该阵列基板包括:一玻璃基板;栅电极,其设置于该玻璃基板上;第一绝缘层,其沉积于该玻璃基板以及栅电极上;半导体层,其设置于该第一绝缘层上并位于栅电极上方;平坦层,其设置于第一绝缘层上;源极和漏极,该源极和漏极均设置于平坦层以及半导体层上;像素电极层,其设置于平坦层以及该漏极上;第二绝缘层,其设置于平坦层、半导体层、源极以及漏极上。本发明具有避免在开孔处形成气泡、提高开口率的有益效果,并且该平坦层还增大了源极、漏极与栅电极之间的距离,可以提高抗静电能力。
申请公布号 CN105870056A 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201610216334.1 申请日期 2016.04.08
申请人 深圳市华星光电技术有限公司 发明人 夏慧;黄添钧
分类号 H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I 主分类号 H01L21/77(2006.01)I
代理机构 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人 黄威
主权项 一种阵列基板,其特征在于,包括:一玻璃基板;栅电极,其设置于该玻璃基板上;第一绝缘层,其沉积于该玻璃基板以及栅电极上;半导体层,其设置于该第一绝缘层上并位于栅电极上方;平坦层,其设置于第一绝缘层上;源极,该源极设置于平坦层以及半导体层上;漏极,该漏极设置于平坦层以及半导体层上;像素电极层,其设置于平坦层以及该漏极上;第二绝缘层,其设置于平坦层、半导体层、源极以及漏极上。
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