发明名称 一种聚-L-乳酸微结构的制作方法
摘要 本发明公开一种聚‑L‑乳酸微结构的制作方法,即将粒径为1‑5mm、分子量为4000‑20000的聚‑L‑乳酸颗粒溶于氯仿中,得到浓度为200‑350g/L的聚‑L‑乳酸氯仿溶液,然后用匀胶机在基板上进行二次连续甩胶,获得的聚‑L‑乳酸的薄膜控制温度为80℃烘干;然后对烘干后的聚‑L‑乳酸薄膜进行x射线曝光,X射线曝光剂量是0.02Ah,曝光完成后,将聚‑L‑乳酸薄膜用浓度为1‑2mol/L的KOH或NaOH水溶液进行显影,然后用去离子水进行冲洗2‑3次,冲洗完后控制温度为60‑100℃进行烘干,即得聚‑L‑乳酸微结构。该制作方法制备工艺简单、制作成本高、制备周期短等特点。
申请公布号 CN104130427B 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201410348463.7 申请日期 2014.07.22
申请人 上海应用技术学院 发明人 李以贵
分类号 C08J3/28(2006.01)I;C08L67/04(2006.01)N 主分类号 C08J3/28(2006.01)I
代理机构 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人 吴宝根;马文峰
主权项 一种聚‑L‑乳酸微结构的制作方法,其特征在于具体包括如下步骤 :(1)、将粒径为1‑5mm的聚‑L‑乳酸颗粒溶于氯仿中,得到浓度为200‑350g/L的聚‑L‑乳酸氯仿溶液,然后将所得的聚‑L‑乳酸氯仿溶液用匀胶机在基板上进行二次连续甩胶,获得的聚‑L‑乳酸的薄膜控制温度为80℃烘干;所述的聚‑L‑乳酸的分子量为4000‑20000;(2)、对步骤(1)烘干后的聚‑L‑乳酸薄膜进行X射线曝光,X射线曝光过程的曝光剂量为0.02Ah,曝光次数为一次,曝光完成后,将聚‑L‑乳酸薄膜用浓度为1‑2mol/L的KOH水溶液或浓度为1‑2 mol/L NaOH水溶液进行显影,显影次数为一次,然后用去离子水进行冲洗2‑3次,冲洗完后控制温度为60‑100℃进行烘干,即得聚‑L‑乳酸微结构。
地址 200235 上海市徐汇区漕宝路120号