发明名称 光刻用薄膜、带薄膜的光掩模及曝光处理方法
摘要 本发明提供具有对于波长250nm以下、特别是200nm以下的光的耐光性良好的防尘薄膜的光刻用薄膜、使用该薄膜的带薄膜的光掩模及曝光处理方法。光刻用薄膜是具有包含由含氟聚合物(A)形成的膜和由含氟聚合物(B)形成的膜的多层薄膜的光刻用薄膜,其中,含氟聚合物(A)含有将含1个醚性氧原子的全氟二烯环化聚合而得的重复单元作为主要成分,含氟聚合物(B)具有环结构内含互不相邻的2个或3个醚性氧原子的含氟脂肪族环结构,其特征在于,所述由含氟聚合物(B)形成的膜的总膜厚在所述由含氟聚合物(A)形成的膜的总膜厚的40%以下。
申请公布号 CN103718105B 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201280036649.8 申请日期 2012.07.27
申请人 旭硝子株式会社 发明人 武部洋子
分类号 G03F1/62(2006.01)I 主分类号 G03F1/62(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 胡烨
主权项 光刻用薄膜,它是具有包含由含氟聚合物(A)形成的膜和由含氟聚合物(B)形成的膜的多层薄膜的光刻用薄膜,其中,含氟聚合物(A)含有将含1个醚性氧原子的全氟二烯环化聚合而得的重复单元作为主要成分,含氟聚合物(B)具有环结构内含互不相邻的2个或3个醚性氧原子的含氟脂肪族环结构,其特征在于,所述由含氟聚合物(B)形成的膜的总膜厚在所述由含氟聚合物(A)形成的膜的总膜厚的40%以下;所述全氟二烯为以下式(a1)表示的含氟化合物;<img file="FDA0000989296330000011.GIF" wi="1046" he="397" />式中,W<sup>6</sup>表示氟原子或碳数1~3的全氟烷基,n为0或1;所述含氟聚合物(B)包含选自来源于以下式(b1)表示的含氟化合物的重复单元和来源于以下式(b2)表示的含氟化合物的重复单元的至少1种;<img file="FDA0000989296330000012.GIF" wi="934" he="543" />式中,W<sup>1</sup>为氟原子、碳数1~3的全氟烷基或碳数1~3的全氟烷氧基;W<sup>2</sup>和W<sup>3</sup>分别独立为氟原子或可含氧原子的碳数1~6的全氟烷基,W<sup>2</sup>和W<sup>3</sup>可相互结合而形成环状结构;W<sup>4</sup>和W<sup>5</sup>分别独立为氟原子或可含氧原子的碳数1~8的全氟烷基,W<sup>4</sup>和W<sup>5</sup>可相互结合而形成环状结构。
地址 日本东京