发明名称 |
Mg扩散的LED外延片、生长方法及LED结构 |
摘要 |
本申请公开了一种Mg扩散的LED外延片、生长方法及LED结构,该LED外延片结构从下至上依次为:衬底,GaN缓冲层,非掺杂GaN层,n型GaN层,多量子阱层,P型AlGaN层,在所述的P型AlGaN层上为渐变掺杂Mg的P型GaN层,所述的P型GaN层为进行了Mg扩散处理的GaN层。进一步提供一种LED结构。本发明的优点是:在生长完一小段渐变掺杂Mg的p型GaN后停止生长,再通入大量的Mg对前段p型GaN进行Mg的扩散处理,通过扩散的方式Mg更好地取代Ga位,同时减少了Mg-H键的形成,减少了填充类型的Mg原子,使得并入的Mg原子大部分处在Ga位,提高了处于Ga位Mg原子的比例,使得电离能低的Mg原子比例增加。 |
申请公布号 |
CN104091872B |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201410368260.4 |
申请日期 |
2014.07.30 |
申请人 |
湘能华磊光电股份有限公司 |
发明人 |
林传强 |
分类号 |
H01L33/14(2010.01)I;H01L33/04(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/14(2010.01)I |
代理机构 |
北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 |
代理人 |
马佑平 |
主权项 |
一种Mg扩散的LED外延片,其结构从下至上依次为:衬底,GaN缓冲层,非掺杂GaN层,n型GaN层,多量子阱层,P型AlGaN层,其特征在于,在所述的P型AlGaN层上为渐变掺杂Mg的P型GaN层,所述的P型GaN层为进行了Mg扩散处理的GaN层。 |
地址 |
423038 湖南省郴州市苏仙区白露塘镇有色金属产业园区 |