薄膜形成装置

摘要

本发明提出一种薄膜形成装置，在基板上形成钝化膜，且包括：腔室，被导入包含钝化膜的原料气体的反应气体；基板底板，配置于腔室内，且载置基板；电极，配置于腔室内，在基板底板上的与基板相对向的面形成着槽；以及交流电源，一边使大于或等于50kHz且小于或等于450kHz的频率的交流电力的供给以固定的周期停止，一边将该交流电力供给至基板底板与电极之间，且在基板的上表面激发包含原料气体的等离子体。

主权项

一种薄膜形成装置，在基板上形成钝化膜，其特征在于包括：腔室，被导入包含所述钝化膜的原料气体的反应气体；基板底板，配置于所述腔室内，且载置所述基板；电极，配置于所述腔室内，在所述基板底板上的与所述基板相对向的面形成槽；以及交流电源，一边使大于或等于50kHz且小于或等于450kHz的频率的交流电力的供给以固定的周期停止，一边将所述交流电力供给至所述基板底板与所述电极之间，且在所述基板的上表面激发包含所述原料气体的等离子体，其中，在所述电极的所述槽中，产生空心阴极放电，同时以所述固定的周期使所述交流电力的供给停止，借此在所述腔室内使得所述等离子体稳定。