发明名称 |
掩膜板、显示基板的制作方法、显示基板及显示装置 |
摘要 |
本发明提供了一种掩膜板、显示基板的制作方法、显示基板及显示装置,该掩膜板包括用于在衬底基板上制作显示图案的第一掩膜图案,还包括第二掩膜图案,所述第二掩膜图案用于在所述衬底基板上制作标记图案,所述标记图案用于确定所述显示图案相对所述衬底基板的中心偏移量。本发明提供的掩膜板,通过增设第二掩膜图案,在使该掩膜板在衬底基板上制作显示图案的同时可以在衬底基板上制作标记图案,通过该标记图案可以确定显示图案相对衬底基板的中心偏移量,相比现有的中心偏移量检测方式,可以避免由于玻璃基板边缘几何形状不好对测量结果的影响,并且可以实现对衬底基板上每一个曝光区域的中心偏移量进行测量。 |
申请公布号 |
CN105867066A |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201610480008.1 |
申请日期 |
2016.06.27 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
张玉虎;金宇 |
分类号 |
G03F1/84(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/84(2012.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
李相雨 |
主权项 |
一种掩膜板,包括用于在衬底基板上制作显示图案的第一掩膜图案,其特征在于,还包括第二掩膜图案,所述第二掩膜图案用于在所述衬底基板上制作标记图案,所述标记图案用于确定所述显示图案相对所述衬底基板的中心偏移量。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |