发明名称 |
蒸镀掩模的制造方法及有机半导体元件的制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种即使在大型化的情况下也能够满足高精细化和轻量化二者的蒸镀掩模的制造方法、及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。通过如下的工序制造蒸镀掩模,即:准备在金属板的一面设有树脂层的带树脂层的金属板;相对于所述带树脂层的金属板的金属板,通过形成仅贯通该金属板的缝隙而形成带树脂层的金属掩模;然后,从所述金属掩模侧照射激光,在所述树脂层上纵横地形成多列与要蒸镀制作的图案对应的开口部,从而形成树脂掩模。 |
申请公布号 |
CN105870326A |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201610206515.6 |
申请日期 |
2013.01.11 |
申请人 |
大日本印刷株式会社 |
发明人 |
武田利彦;西村佑行;小幡胜也 |
分类号 |
H01L51/00(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)N |
主分类号 |
H01L51/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
刘晓迪 |
主权项 |
一种蒸镀掩模的制造方法,所述蒸镀掩模将设有缝隙的金属掩模、和位于所述金属掩模的表面且配置有与要蒸镀制作的图案相对应的开口部的树脂掩模层积而构成,所述蒸镀掩模的制造方法的特征在于,具备如下的工序:准备在所述金属掩模的一面设有树脂层的带树脂层的金属掩模;从所述带树脂层的金属掩模的所述金属掩模侧通过所述缝隙而照射激光,在所述树脂层上形成与要蒸镀制作的图案对应的开口部,从而形成树脂掩模;在所述形成的树脂掩模的所述开口部的端面形成包含金属、无机氧化物、无机氮化物中的任一种的阻挡层。 |
地址 |
日本东京都 |