发明名称 |
监测方法 |
摘要 |
本发明揭露了一种监测方法,用于用于在线监测SiGe结构和STI界面性能。所述监测方法通过形成结面积相同的边缘型PN结和面积型PN结,量测出两者的漏电流,通过数据比对和分析得到SiGe结构和STI的界面的状态。这样,可以直接通过监测SiGe结构和STI的界面的漏电流来监测SiGe结构和STI的界面的状态。从而实现对线上产品的实时监测,无需等到问题产生再进行TEM切片来研究界面是否正常,大大提高了产品良率。 |
申请公布号 |
CN103887202B |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201410109846.9 |
申请日期 |
2014.03.24 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
周建华;刘巍 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
王宏婧 |
主权项 |
一种监测方法,用于在线监测SiGe结构和STI界面性能,所述监测方法包括:设计SiGe结构与N型阱形成的面积型PN结的版图;设计多个边缘型PN结并联结构,所述多个边缘型PN结的结面积之和与所述面积型PN结的结面积相同;在器件制造过程中在衬底上形成所述边缘型PN结和面积型PN结;在线测量所述边缘型PN结和面积型PN结的漏电流并记录;进行归一化计算,分别计算出面积型PN结归一化电流IL<sub>AP</sub>和多个边缘型PN结归一化电流IL<sub>EP</sub>;计算归一化电流之差ΔIL,ΔIL=IL<sub>AP</sub>‑IL<sub>EP</sub>;进行IL<sub>AP</sub>、IL<sub>EP</sub>及ΔIL的数据分析,判断SiGe结构和STI的界面性能。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 |