发明名称 一种阵列基板及其制备方法
摘要 本发明提供一种阵列基板及其制备方法,属于显示领域,其可解决现有技术中由于有机膜层较厚在有机膜层上开过孔会造成其上方的开口区域较深,从而导致后续各个功能层的段差较大,液晶取向不良的问题。本发明的阵列基板,所述的阵列基板包括设置在基板上的有机膜层,所述的有机膜层具有第一过孔区域,在所述的第一过孔区域的远离基板的方向上具有开口区域,所述的开口区域设有第一金属层。由于第一金属层填充了开口区域,整个取向层会在开口区域具有较小的段差,更有利于避免液晶取向不良。同时,第一金属层完全覆盖下方的第三金属层,可以使第三金属层免于裸露在阵列基板的外面、接触到潮湿的空气发生腐蚀。
申请公布号 CN103744213B 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201310736155.7 申请日期 2013.12.25
申请人 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 发明人 木素真;胡明
分类号 G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 G02F1/1333(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 柴亮;张天舒
主权项 一种阵列基板,包括设置在基板上的功能层,所述的功能层具有第一过孔区域,在所述的第一过孔区域的远离基板的方向上具有开口区域,其特征在于,所述开口区域设置有第三金属层,第三金属层上表面形成有用于减小开口区域段差的第一金属层;所述的功能层的第一过孔区域靠近基板的一侧设有第二金属层;所述第三金属层位于所述第一金属层和所述第二金属层之间,所述的第三金属层和第二金属层通过设置在两者之间的绝缘层的第二过孔连接。
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