发明名称 一种一体化沉淀池
摘要 本专利公开一种一体化沉淀池,该沉淀池由过滤层(1)、集水盘(2)、沉淀池Ⅲ(3)、沉淀池Ⅰ(4)、进水管(5)、沉淀池Ⅱ(6)、沉淀斜板Ⅰ(7)、出水管(8)、集泥井Ⅰ(9)、集泥井Ⅱ(10)、排泥管Ⅱ(11)、排泥管Ⅰ(12)、沉淀斜板Ⅱ(13)、穿孔曝气盘(14)组成;集水盘(2)、沉淀池Ⅲ(3)、沉淀池Ⅰ(4)、进水管(5)、沉淀池Ⅱ(6)为同心圆结构;在沉淀池Ⅱ(6)底部设置沉淀斜板Ⅱ(13),集泥井Ⅱ(10)内安装穿孔曝气盘(14),集水盘(2)内装填过滤层(1)。本专利的优点如下:(1)沉淀效率高,对于小颗粒、低密度的悬浮物有较高的去除效率;(2)清洗方便,不堵塞;(3)结构紧凑,节省用地。
申请公布号 CN205461375U 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201620165965.0 申请日期 2016.03.04
申请人 重庆文理学院 发明人 于芳;于慧;王书敏
分类号 B01D36/04(2006.01)I 主分类号 B01D36/04(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种一体化沉淀池,其特征在于:所述一种一体化沉淀池由过滤层(1)、集水盘(2)、沉淀池Ⅲ(3)、沉淀池Ⅰ(4)、进水管(5)、沉淀池Ⅱ(6)、沉淀斜板Ⅰ(7)、出水管(8)、集泥井Ⅰ(9)、集泥井Ⅱ(10)、排泥管Ⅱ(11)、排泥管Ⅰ(12)、沉淀斜板Ⅱ(13)、穿孔曝气盘(14)组成;集水盘(2)、沉淀池Ⅲ(3)、沉淀池Ⅰ(4)、进水管(5)、沉淀池Ⅱ(6)为同心圆结构,进水管(5)、沉淀池Ⅰ(4)、沉淀池Ⅱ(6)、沉淀池Ⅲ(3)的顶部标高依次降低0.3‑0.5米,集水盘(2)和沉淀池Ⅲ(3)的顶部标高相同;沉淀池Ⅰ(4)深2.0米,进水管(5)底部设置喇叭口,且进水管(5)底部标高高于沉淀池Ⅰ(4)底部标高0.3米;集泥井Ⅰ(9)倾角为45°,顶部标高与沉淀池Ⅰ(4)底部标高相同;沉淀池Ⅱ(6)、沉淀池Ⅲ(3)的底部标高与集泥井Ⅰ(9)的底部标高相同;沉淀池Ⅱ(6)底部设置沉淀斜板Ⅱ(13),沉淀斜板Ⅱ(13)倾角为45°,沉淀斜板Ⅱ(13)的斜板间距为0.1‑0.4米,且沉淀斜板Ⅱ(13)最底部的斜板与沉淀池Ⅱ(6)底部相连;沉淀池Ⅲ(3)内设置沉淀斜板Ⅰ(7),沉淀斜板Ⅰ(7)的倾角为60°,间距为0.2‑0.5米;集泥井Ⅱ(10)内安装穿孔曝气盘(14),穿孔曝气盘(14)由DN20mm的PVC管构成,且斜向下开孔径为5‑10mm的曝气孔,开孔间距20‑50mm;集水盘(2)内装填过滤层(1),过滤层(1)厚度0.3‑0.5米,由粒径为10mm的砾石组成。
地址 402610 重庆市永川区经济技术开发区学府大道