发明名称 |
一种屏蔽量子阱区极化场效应的发光二极管外延结构 |
摘要 |
本发明一种屏蔽量子阱中极化场效应的发光二极管外延结构,涉及至少有一个电位跃变势垒或表面势垒的专门适用于光发射的半导体器件,该结构由下到上依次排列包括:衬底、缓冲层、非掺杂半导体材料层、掺杂N型半导体材料层、多量子阱层、P型电子阻挡层和P型半导体材料,其中在多量子阱层中通过量子垒中组份渐变的结构来实现量子垒中产生极化体电荷,从而会起到屏蔽量子阱区极化场的作用,克服了屏蔽量子阱区极化场效应的现有技术存在屏蔽量子阱区极化场的工艺复杂、效果不明显和影响空穴传输的缺陷。 |
申请公布号 |
CN105870274A |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201610260332.2 |
申请日期 |
2016.04.22 |
申请人 |
河北工业大学 |
发明人 |
张紫辉;张勇辉;毕文刚;徐庶;耿翀 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;H01L21/205(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 |
代理人 |
胡安朋 |
主权项 |
一种屏蔽量子阱中极化场效应的发光二极管外延结构,其特征在于:该结构由下到上依次排列包括:衬底、缓冲层、非掺杂半导体材料层、掺杂N型半导体材料层、多量子阱层、P型电子阻挡层和P型半导体材料;所述多量子阱层的材质为Al<sub>x1</sub>In<sub>y1</sub>Ga<sub>1‑x1‑y1</sub>N/Al<sub>x2</sub>In<sub>y2</sub>Ga<sub>1‑x2‑y2</sub>N,式中,x2在0≤x2≤1范围内沿着[0001]或[000‑1]的生长方向呈现线性变化、非线性变化或线性变化与非线性变化二者结合的变化,y2在0≤y2≤1范围内沿着[0001]或[000‑1]的生长方向呈现线性变化、非线性变化或线性变化与非线性变化二者结合的变化,0≤1‑x1‑y1,0≤x1≤1,0≤y1≤1,0≤1‑x2‑y2,量子阱Al<sub>x1</sub>In<sub>y1</sub>Ga<sub>1‑x1‑y1</sub>N的厚度为1~20nm,量子垒Al<sub>x2</sub>In<sub>y2</sub>Ga<sub>1‑x2‑y2</sub>N的厚度为5~50nm,量子垒Al<sub>x2</sub>In<sub>y2</sub>Ga<sub>1‑x2‑y2</sub>N的最小禁带宽度大于量子阱Al<sub>x1</sub>In<sub>y1</sub>Ga<sub>1‑x1‑y1</sub>N的禁带宽度。 |
地址 |
300130 天津市红桥区丁字沽光荣道8号河北工业大学东院330# |