新型热处理设备

摘要

描述了光学系统，所述光学系统能够跨越包含于衬底的表面上的退火区域可靠地递送数量均匀的能量。所述光学系统经调适以在衬底的表面上的所要区域上递送或投射具有所要二维形状的数量均匀的能量。用于光学系统的能量源通常为多个激光，所述多个激光经组合以形成能量场。

主权项

一种用于热处理衬底的设备，所述设备包含：电磁能的源，可操作所述电磁能的源以产生电磁能的脉冲；衬底支撑件，可操作所述衬底支撑件以相对于所述电磁能移动衬底；及光学系统，所述光学系统安置于所述电磁能的源与所述衬底支撑件之间，所述光学系统包含脉冲组合器、脉冲成形器、均匀器及孔构件，所述孔构件具有嵌入所述孔构件中的能量阻隔构件，其中所述能量阻隔构件安置于所述电磁能的焦平面处。