发明名称 |
用于胶印的移印版、其制备方法,使用其印刷的印刷品和包括该印刷品的触控面板 |
摘要 |
本发明涉及一种用于胶印的移印版及其制备方法,根据本发明的用于胶印的移印版包括沟槽图案,其中,该沟槽图案至少部分区域的深度不同于剩余区域的深度。在制备用于控制当实施已知宽度的线宽时出现的底部触碰现象的用于胶印的移印版时,本发明可以包括双重蚀刻工艺,从而制备具有多种线宽和蚀刻深度的用于胶印的移印版。 |
申请公布号 |
CN103998243B |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201280045134.4 |
申请日期 |
2012.09.27 |
申请人 |
LG化学株式会社 |
发明人 |
黄智泳;具范谟 |
分类号 |
B41C3/08(2006.01)I |
主分类号 |
B41C3/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京金信知识产权代理有限公司 11225 |
代理人 |
朱梅;李海明 |
主权项 |
一种用于胶印的移印版,包括:沟槽图案,其中,该沟槽图案的至少部分区域的深度不同于剩余区域的深度,其中,所述用于胶印的移印版包括线性图案的沟槽图案,且符合下述关系式1;或者所述用于胶印的移印版包括封闭图形的沟槽图案,且符合下述关系式2:[关系式1]D≥42.9exp(‑{(P‑W)/P}/0.35)‑1.5 [关系式2]D≥33.8exp(‑{(P‑W)/P}/0.235)+0.82 其中,D为所述沟槽图案的深度,P为间距,W为所述沟槽图案的线宽,且所有单位为微米。 |
地址 |
韩国首尔 |