| 发明名称 | 拍摄装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种拍摄装置及其制造方法，其中，绝缘衬层(LL1～LL4)在像素区域(GAR)的外侧的区域、且在像素区域(GAR)的4个角部(AO)之中的至少一个角部(AO)的对顶角的区域(OFR)内，具有除去了绝缘衬层(LL1～LL4)的像素外去除区域(OPR)。 | ||
| 申请公布号 | CN105870139A | 申请公布日期 | 2016.08.17 |
| 申请号 | CN201610076675.3 | 申请日期 | 2016.02.03 |
| 申请人 | 瑞萨电子株式会社 | 发明人 | 后藤洋太郎 |
| 分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 陈伟;王娟娟 |
| 主权项 | 一种拍摄装置，具有：半导体衬底，其具有主表面，且在所述主表面上具有矩形的像素区域；多个光电转换元件，其在所述像素区域中，形成在所述半导体衬底上；含铜的布线层，其形成在所述多个光电转换元件之上；以及含氮的绝缘衬层，其覆盖所述布线层的上表面，所述绝缘衬层在所述像素区域的外侧的区域、且在所述像素区域的4个角部之中的至少一个角部的对顶角的区域内，具有除去了所述绝缘衬层的像素外去除区域。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||