发明名称 制造超导带材用的离子植入
摘要 一种形成超导体带材的方法包含:将超导体层沉积在基板上;在所述超导体层的表面上形成包括第一金属的金属层;以及将合金物质植入到所述金属层中,其中所述第一金属在植入所述合金物质之后形成金属合金。
申请公布号 CN105849924A 申请公布日期 2016.08.10
申请号 CN201480070509.1 申请日期 2014.11.14
申请人 瓦里安半导体设备公司 发明人 康妮·P·王;保罗·墨菲;保罗·沙利文;卢多维克·葛特;法兰克·辛克莱;摩根·艾文斯
分类号 H01L39/02(2006.01)I;H01L39/24(2006.01)I 主分类号 H01L39/02(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 杨贝贝;臧建明
主权项 一种形成超导体带材的方法,包括:将超导体层沉积在基板上;在所述超导体层的表面上形成包括第一金属的金属层;以及将合金物质植入到所述金属层中,其中所述第一金属在所述合金物质的植入之后形成金属合金。
地址 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号