发明名称 |
失效点的定位方法及芯片的失效分析方法 |
摘要 |
本申请提供了一种失效点的定位方法及芯片的失效分析方法。其中,芯片包括衬底和位于衬底的器件,该定位方法包括:对芯片的背面进行减薄处理至接近器件;对减薄处理后的芯片的背面进行离子束轰击,以使得离子束穿过器件;以及对离子束轰击处理后的芯片的正面进行电子束扫描,以定位芯片中的失效点的位置。该定位方法通过对减薄处理后的芯片的背面进行离子束轰击,以使得离子束穿过器件并使器件中产生击穿区域,从而在利用电子束对芯片的待测表面进行扫描时,待测表面上产生的表面电荷能够从器件表面沿着击穿区域被释放掉,减少了表面电荷对器件表面电势的影响,进而能够精确地获得器件中失效点的位置。 |
申请公布号 |
CN105842264A |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201510020474.7 |
申请日期 |
2015.01.15 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
殷原梓 |
分类号 |
G01N23/22(2006.01)I;G01N1/44(2006.01)I |
主分类号 |
G01N23/22(2006.01)I |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 |
代理人 |
吴贵明;张永明 |
主权项 |
一种失效点的定位方法,用于定位芯片中失效点的位置,所述芯片包括衬底(10)和位于所述衬底中的器件,其特征在于,所述定位方法包括以下步骤:对所述芯片的背面进行减薄处理至接近所述器件;对所述减薄处理后的所述芯片的背面进行离子束轰击,以使得离子束穿过所述器件;以及对所述离子束轰击处理后的所述芯片的正面进行电子束扫描,以定位所述芯片中的失效点的位置。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |