发明名称 |
感光性转印材料、图案形成方法及蚀刻方法 |
摘要 |
本发明提供一种感光性转印材料、图案形成方法及蚀刻方法,所述感光性转印材料包括支撑体与感光性树脂组合物层,前述感光性树脂组合物层含有(A)包含聚合物的聚合物成分及(B)光酸产生剂,所述聚合物含有具有酸基由酸分解性基保护的基团的构成单元(a1),且前述感光性树脂组合物不具有乙烯性交联结构,所述感光性转印材料为正型,且耐热矩形性优异、耐蚀刻剂性优异、抗蚀剂剥离性优异、加工时的扬尘少。 |
申请公布号 |
CN105849637A |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201480069251.3 |
申请日期 |
2014.12.01 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
佐藤守正 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
葛凡 |
主权项 |
一种感光性转印材料,所述感光性转印材料包括支撑体与感光性树脂组合物层,所述感光性树脂组合物层含有(A)包含聚合物的聚合物成分及(B)光酸产生剂,所述聚合物含有具有酸基由酸分解性基保护的基团的构成单元(a1),所述感光性树脂组合物不具有乙烯性交联结构。 |
地址 |
日本国东京都 |