一种MOCVD反应腔室的清理装置

摘要

本实用新型提供一种MOCVD反应腔室的清理装置，属于半导体制造技术领域，本实用新型通过在承载盘上铰接清理手臂制作清理装置，并通过设定清理手臂与水平面的夹角α、及清理装置的旋转速度n，使清理手臂在最小转速下即可于竖直方向张开，进而对反应腔室内壁清理，减少能耗；同时实现了在不拆开反应腔室的基础上就可以将堆积于腔室内的沉积物清除干净，避免了反应腔室内部与大气接触吸附水汽、氧气等杂质。保持了反应腔室内部的洁净度，提高了在腔室维护过后机器性能的稳定性。

主权项

一种MOCVD反应腔室的清理装置，至少包括：一承载盘、复数个均匀分布并铰接于承载盘上部边缘处的清理手臂，所述清理手臂处于静止状态时均向所述承载盘中心方向倾斜，且清理手臂与水平面的夹角为α，0°＜α＜90°。