发明名称 |
用于制备成像转印构件的成像表面的方法和成像转印构件 |
摘要 |
本发明提供用于制备成像转印构件的成像表面的方法和成像转印构件。该用于制备印刷机中成像转印构件的成像表面的方法包括对所述成像表面提供表面粗糙度以在所述表面上产生具有尖锐特征的多个凹陷;将凹陷的成像表面暴露于酸洗液中足以明显减少所述成像表面上的所述尖锐特征的时间段。 |
申请公布号 |
CN102416788B |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201110210788.5 |
申请日期 |
2011.07.13 |
申请人 |
施乐公司 |
发明人 |
T·J·斯奈德;D·A·范考文伯格;J·P·舍思;P·J·麦克康维尔;B·比茨 |
分类号 |
B41N3/03(2006.01)I;B41N1/04(2006.01)I |
主分类号 |
B41N3/03(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
臧霁晨;高为 |
主权项 |
一种用于制备印刷机中成像转印构件的成像表面的方法,其中通过施涂器将液体的分离层施涂到所述成像转印构件上,所述方法包含:对所述成像表面提供表面粗糙度以在所述表面上产生具有尖锐特征的多个凹陷;将凹陷的成像表面暴露于酸洗液中足以明显减少所述成像表面上的所述尖锐特征的时间段以至于所述成像表面具有为0.2到0.4微米的平均表面粗糙度和0.2到0.5微米的平均最大轮廓峰高。 |
地址 |
美国康涅狄格州 |