发明名称 |
包含改性PVA的偏振膜以及具有该偏振膜的光学叠层体 |
摘要 |
本发明提供包含改性PVA的偏振膜以及具有该偏振膜的光学叠层体。本发明提供偏振膜,构成该偏振膜的基体材料和PVA类树脂的密合性良好,并且在拉伸工序及搬运工序中,PVA类树脂不易从基体材料上剥离,具有优异的外观。本发明的偏振膜通过在基体材料上设置PVA类树脂的层、并对基体材料和PVA类树脂的层一体地进行拉伸而得到,PVA类树脂包含改性PVA,该改性PVA的存在量使得以所述PVA类树脂整体为基准的改性比例为0.04mol%~1.4mol%。 |
申请公布号 |
CN103472519B |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201310222583.8 |
申请日期 |
2013.06.06 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
灰田信幸;后藤周作;喜多川丈治 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;G02B1/10(2015.01)I;B32B27/08(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
张平元 |
主权项 |
偏振膜,其通过在基体材料上设置PVA类树脂的层,并对所述基体材料和所述PVA类树脂的层一体地进行拉伸而得到,其中,所述PVA类树脂包含改性PVA,以所述PVA类树脂整体的重量为基准,所述改性PVA的存在量为30重量%以下,且该改性PVA的存在量使得以所述PVA类树脂整体为基准的改性比例为0.04mol%~1.4mol%,所述改性PVA为乙酰乙酰基改性PVA。 |
地址 |
日本大阪府 |