发明名称 充电构件、其生产方法、处理盒和电子照相设备
摘要 提供相对介电常数高和表面自由能小并且能够长期保持高的特定介电常数的充电构件。还提供有效地增加电子照相设备的打印速度和寿命的处理盒以及电子照相设备。充电构件具有支承体、弹性层和表面层,其中所述表面层为固化的涂布剂层,所述涂布剂包含水解性硅烷化合物和在表面上具有0.7质量%至35质量%的羟基的氧化钛颗粒的反应产物。所述电子照相设备和所述处理盒各自包括所述充电构件。
申请公布号 CN103080848B 申请公布日期 2016.08.10
申请号 CN201180039413.5 申请日期 2011.06.30
申请人 佳能株式会社 发明人 铃村典子;黑田纪明
分类号 G03G15/02(2006.01)I 主分类号 G03G15/02(2006.01)I
代理机构 北京魏启学律师事务所 11398 代理人 魏启学
主权项 一种充电构件,其包括:支承体、弹性层和表面层;其特征在于,所述表面层为涂布剂的固化产物层,所述涂布剂包含具有阳离子可聚合有机基团并键合至氧化钛颗粒的硅烷水解缩合物,所述涂布剂通过以下步骤制备:提供包含水解性硅烷化合物和表面上具有含量为0.7质量%至35质量%的羟基的氧化钛颗粒的混合物,所述水解性硅烷化合物为选自由下式(1)和(2)表示的化合物的一种或多种,并且其至少一种为由式(1)表示的化合物,式(1)  R<sup>1</sup>‑Z‑Si‑(OR<sup>2</sup>)<sub>3</sub>式(2)  R<sup>3</sup>‑Si‑(OR<sup>4</sup>)<sub>3</sub>其中R<sup>1</sup>表示阳离子可聚合有机基团,Z表示二价有机基团,R<sup>2</sup>和R<sup>4</sup>各自独立地表示饱和或不饱和烃基,和R<sup>3</sup>表示取代或未取代的烷基或芳基,使所述混合物中的所述水解性硅烷化合物水解和缩合,从而形成键合有所述氧化钛颗粒的所述硅烷水解缩合物,和所述固化产物层通过以下步骤获得:通过用活化能量射线照射所述涂布剂的涂层、使所述硅烷水解缩合物的阳离子可聚合有机基团断裂,并使所述硅烷水解缩合物聚合而使所述涂布剂的涂层固化。
地址 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号