发明名称 |
非挥发性存储器及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开一种非挥发性存储器及其制造方法,该存储器包括基底、堆叠结构、通道层与第二介电层。堆叠结构包括第一介电层与多个存储单元。第一介电层设置于基底上。存储单元堆叠设置于第一介电层上。各个存储单元包括二层第一导体层与电荷存储结构。电荷存储结构设置于第一导体层之间。垂直相邻的存储单元中的电荷存储结构彼此隔离。通道层设置于堆叠结构的侧壁上,且连接于基底。第二介电层设置于通道层与第一导体层之间。 |
申请公布号 |
CN105845681A |
申请公布日期 |
2016.08.10 |
申请号 |
CN201510013033.4 |
申请日期 |
2015.01.12 |
申请人 |
力晶科技股份有限公司 |
发明人 |
朱建隆;陈俊宏;邱达乾 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
陈小雯 |
主权项 |
一种非挥发性存储器,包括:基底;堆叠结构,包括:第一介电层,设置于该基底上;以及多个存储单元,堆叠设置于该第一介电层上,其中各该存储单元包括:二第一导体层;以及电荷存储结构,设置于该些第一导体层之间,其中垂直相邻的该些存储单元中的该些电荷存储结构彼此隔离;通道层,设置于该堆叠结构的侧壁上,且连接于该基底;以及第二介电层,设置于该通道层与该些第一导体层之间。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区 |